紐約時裝技術(shù)學(xué)院研究生留學(xué)全解析

如今申請紐約時裝技術(shù)學(xué)院研究生留學(xué)生的同學(xué)越來越多，深的眾多藝術(shù)生的關(guān)注。那么問題來了，了解紐約時裝技術(shù)學(xué)院研究生留學(xué)全解析?下面讓我們看一下詳情吧!

一、院校介紹

紐約時裝技術(shù)學(xué)院(Fashion Institute of Technology，State University of New York)是國際著名的服裝與藝術(shù)設(shè)計院校，成立于1944年，位于美國紐約市曼哈頓區(qū)。開設(shè)專業(yè)涉及如時裝設(shè)計、廣告設(shè)計、電腦動畫及互動媒體、織物設(shè)計、室內(nèi)設(shè)計、時裝攝影、時尚產(chǎn)品管理等。

創(chuàng)始人莫蒂默(mortimer critter)希望學(xué)院成為“一座像麻省理工學(xué)院一樣的設(shè)計學(xué)院”。因此經(jīng)過不懈的努力，fit已經(jīng)成為具有豐富的成功的歷史，在紐約城市經(jīng)濟(jì)的沖擊下仍然持久屹立的著名學(xué)府。

二、研究生專業(yè)

插畫專業(yè)

藝術(shù)與技術(shù)的融合創(chuàng)造了機(jī)會和挑戰(zhàn)，這意味著在專業(yè)上需要新的技術(shù)和新的觀點。 FIT的插畫碩士，幫助你成為一個創(chuàng)新的視覺傳播者。這門課程適合那些喜歡插畫，想要進(jìn)一步發(fā)展他們個人興趣的插畫家，以及尋求重振自己的職業(yè)生涯的插畫家。

全球時尚管理專業(yè)

FIT的全球時尚管理碩士專業(yè)進(jìn)修學(xué)院(MPS)是為了國際時裝界的時尚高管所設(shè)計的。 FIT與香港理工大學(xué)和巴黎de la Mode學(xué)院合作，提供三大洲間的交流機(jī)會。在每個校區(qū)的為期十天的密集研討會中，你將獲得對于國際時裝企業(yè)各個環(huán)節(jié)、技術(shù)，和推動他們之間的相互關(guān)系的全面了解。該課程重點在領(lǐng)導(dǎo)力、跨文化理解和全球市場等領(lǐng)域。通過這些學(xué)習(xí)，畢業(yè)生將有能力組建及管理國際專業(yè)團(tuán)隊，并在由業(yè)務(wù)效率和盈利等國際問題帶來的風(fēng)險中領(lǐng)導(dǎo)企業(yè)度過難關(guān)。

展覽設(shè)計專業(yè)

在藝術(shù)課程的展覽設(shè)計研究生課程中，你將學(xué)習(xí)如何創(chuàng)造能夠傳達(dá)娛樂和激發(fā)他人的環(huán)境性體驗。你會專注在設(shè)計師的角色以及與展覽團(tuán)隊其他成員的關(guān)系，與此同時考慮到展覽的各個方面，比如溝通、設(shè)計以及裝配建造。

三、研究生申請要求

語言成績

雅思：6.5分;托福：90分

申請材料

申請表、托?；蜓潘汲煽?、作品集、短文、簡歷、推薦信兩封、可能需要面試

研究生作品集要求

展覽設(shè)計：

20個設(shè)計作品，包括：AutoCad或Vectorworks草圖;Illustrator、InDesign和Photoshop熟練運用;3D作品。提交手工創(chuàng)作和其他軟件作品有加分。攝影、繪畫、雕塑或其他媒介作品也可放入作品集。

插畫：

提交15-20個作品。必須包含寫生素描。圖片格式為LOW-RES(72像素)。不符合要求的作品集不會被列入考慮。不接受幻燈片、原創(chuàng)作品或網(wǎng)站鏈接。

上述就是關(guān)于紐約時裝技術(shù)學(xué)院研究生留學(xué)全解析的介紹就到這里了，如果有更多關(guān)于藝術(shù)留學(xué)的問題，可咨詢客服或者撥打我們的官方電話。